Proses pembuatan panel surya-film tipis terutama mencakup langkah-langkah berikut:
Pembersihan substrat (bahan kaca/fleksibel);
Deposisi lapisan-penyerap cahaya (seperti CdTe, CIGS, atau silikon amorf, tebal 1-3 mikrometer);
Lapisan elektroda (lapisan konduktif transparan dan elektroda belakang);
Pemotongan laser (membagi unit sel);
Enkapsulasi dan pengujian (perlindungan kelembaban, verifikasi kinerja).
Alasan: Teknologi film-tipis menggunakan lebih sedikit bahan dibandingkan silikon kristal, sehingga cocok untuk produksi-area besar, namun efisiensinya sedikit lebih rendah (10%-20%).
